高速掃描電子顯微鏡
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產品名稱:
高速掃描電子顯微鏡
產品型號:
HEM6000
產品展商:
REANOW/雷若科技
產品文檔:
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簡單介紹
高速掃描電子顯微鏡采用高亮度大束流電子槍、高速電子偏轉系統(tǒng)、高壓樣品臺減速、動態(tài)光軸、浸沒式電磁復合物鏡等技術，實現(xiàn)了超快的數(shù)據(jù)采集和成像速度，同時保證了納米級分辨率。
高速掃描電子顯微鏡 的詳細介紹
HEM6000是一款可實現(xiàn)跨尺度大規(guī)模樣品成像的高速掃描電子顯微鏡。
采用高亮度大束流電子槍、高速電子偏轉系統(tǒng)、高壓樣品臺減速、動態(tài)光軸、浸沒式電磁復合物鏡等技術，實現(xiàn)了超快的數(shù)據(jù)采集和成像速度，同時保證了納米級分辨率。
高速掃描電子顯微鏡面向應用場景的自動化操作流程設計，使得大面積的高分辨率圖像采集工作更高效、更智能。成像速度可達常規(guī)場發(fā)射掃描電鏡的5倍以上。
圖像采集速度
10 ns/pixel，2*100 M pixel/s
加速電壓
100 V~6 kV(減速模式) ； 6 kV~30 kV(非減速模式)
分辨率
1.3 nm@3 kV，SE ； 2.2 nm@1 kV，SE
視場大小
*大視場1*1 mm2，高分辨微畸變視場32*32 um2
樣品臺精度
重復定位精度：X ±0.6 um；Y ±0.3 um
高速掃描驅動器
駐點時間10 ns/pixel，
*快采集速度2*100 M pixel/s
電子過濾系統(tǒng)
SE/BSE信號自由切換，
MIX成像信號比例可調
全靜電高速偏轉系統(tǒng)
可實現(xiàn)高分辨大場模式，
4 nm像素點*大視場達32*32 um2
樣品臺減速技術
降低入射電子落點電壓，
同時提高回收電子的收集效率
浸沒式電磁復合物鏡
物鏡磁場浸沒樣品
實現(xiàn)了低像差高分辨率
產品優(yōu)勢
高速自動化
全自動上下樣流程和采圖作業(yè)，綜合成像速度優(yōu)于常規(guī)場發(fā)射掃描電鏡的 5 倍
大場低畸變
跟隨掃描場動態(tài)變化的光軸，實現(xiàn)了更低的場邊緣畸變
低壓高分辨
樣品臺減速技術，實現(xiàn)低落點電壓，同時保證高分辨率
應用領域
應用案例
芯片（金屬層）/ 116x / BSE / 120 ns
芯片（器件層） / 2000x / BSE / 40 ns
芯片（金屬層）/ 1200x / BSE / 120 ns
芯片（器件層） / 1200x / BSE / 120 ns
生物切片 / 9500x / BSE / 120 ns
生物切片 / 10000x / BSE / 120 ns
生物切片 / 10000x / BSE / 120 ns
生物切片 / 116x / BSE / 120 ns
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指標
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HEM6000
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常規(guī)場發(fā)射掃描電鏡
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像素尺寸(單張)
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8192*8192
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像素點時間
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120 ns（點/行/幀平均數(shù)：6/2/1）
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800 ns
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像素大小
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16 nm
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拍攝總面積
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2 mm2
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拍攝總時間
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25分32秒
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>140分
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產品參數(shù)
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關鍵參數(shù)
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分辨率
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1.3nm @ 3 kV，SE；1.9nm @ 3 kV，BSE；
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2.2 nm @ 1 kV，SE；3.3 nm @ 1 kV，BSE；
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加速電壓
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100 V~6 kV(減速模式)
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6 kV~30 kV(非減速模式)
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放大倍率
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66~1,000,000x
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電子槍類型
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高亮度肖特基場發(fā)射電子槍
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物鏡類型
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浸沒式電磁復合物鏡
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樣品裝載系統(tǒng)
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真空系統(tǒng)
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全自動控制，無油真空系統(tǒng)
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樣品監(jiān)控
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樣品倉監(jiān)控水平攝像頭 ； 換樣倉監(jiān)控垂直攝像頭
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樣品*大尺寸
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直徑4英寸
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樣品臺
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類型
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電機驅動3軸樣品臺（*可選配壓電驅動樣品臺）
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行程
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X、Y軸：110mm；
Z軸：28mm；
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重復定位精度
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X軸：±0.6μm；
Y軸：±0.3μm；
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換樣方式
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全自動控制
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換樣時間
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＜15 min
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換樣倉清洗
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全自動控制等離子清洗系統(tǒng)
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圖像采集與處理
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駐點時間
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10 ns/pixel
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圖像采集速度
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2*100 M pixel/s
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圖像大小
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8K*8K
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探測器和擴展
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標配
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鏡筒內混合電子探測器
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選配
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低角度背散射電子探測器
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鏡筒內高角度背散射電子探測器
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壓電驅動樣品臺
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高分辨大場模式
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樣品倉等離子清洗系統(tǒng)
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6英寸樣品裝載系統(tǒng)
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主動減震臺
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AI降噪；大圖拼接；三維重構
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軟件
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語言
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中文
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操作系統(tǒng)
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Windows
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導航
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光學導航、手勢快捷導航
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自動功能
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自動樣品識別、自動選區(qū)拍攝、自動亮度對比度、自動聚焦、自動像散
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